歡迎來到深圳市京都玉崎電子有限公司！
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產(chǎn)品分類 / PRODUCT
更新時間：2026-07-04 
瀏覽次數(shù)：76介質：大流量光刻膠、稀釋劑、抗反射涂層液、PI 聚酰亞胺固化液
工況：連續(xù) 24h 涂布，單路供液流量 20–50mL/min，單臺泵供給整幅寬狹縫模頭
選型：PEEK/316 拋光泵頭，雙泵 HYM-06 聯(lián)動做膠液 + 稀釋劑在線配比
優(yōu)勢：無脈動避免整片晶圓膜厚波浪紋，滿足量產(chǎn)穩(wěn)定供液需求
介質：TMAH 顯影液、高純 IPA 清洗液、堿性剝離液、界面活性劑
工藝：大型清洗槽持續(xù)微量到中流量補加，穩(wěn)定槽內藥液濃度，減少換液停機
材質：316 電解拋光泵頭，易拆洗，無塵車間低顆粒析出
濕膜光刻膠滾涂量產(chǎn)供液：相比 HYM-03 小試單盤涂布，HYM-06 適配連續(xù)卷對卷產(chǎn)線；
蝕刻 / 化學鍍銅大容量藥劑補加：氯化銅蝕刻母液、化學鍍還原劑持續(xù)投加；
阻焊綠油連續(xù)涂布，高粘度油墨穩(wěn)定輸送，無斷供、厚薄不均缺陷。
大流量底填膠、環(huán)氧密封膠批量輸送：多芯片堆疊 WLCSP 封裝連續(xù)點膠供膠；
晶圓電鍍生產(chǎn)線光亮劑、整平劑中流量補給，哈氏合金泵頭耐酸性鍍液氯離子腐蝕。
光刻樹脂、拋光漿料、電解液中試放大，多路同步配比；
流量高于實驗室小試，替代多臺并聯(lián) HYM-03，簡化設備集成、降低成本。
光學基板抗指紋涂層量產(chǎn)高壓噴涂；
CMP 拋光液氧化劑、pH 調節(jié)劑連續(xù)中流量投加，穩(wěn)定晶圓去除速率。
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